plasma system中文是什么意思

• 等离子系统

• "plasma"中文翻译    n. 1.【生理】血浆；淋巴液。 2.【生物学】原生质。 ...
• "system"中文翻译    n. 1.体系，系统；分类法；组织；设备，装置。 2.方 ...
• "beam plasma system" 中文翻译 :    束等离子体系
• "blood plasma measuring system" 中文翻译 :    血浆测量系统
• "buffer system of plasma protein" 中文翻译 :    血浆蛋白缓冲系统
• "plasma desmear system" 中文翻译 :    等离子清洁处理装置
• "plasma doping system" 中文翻译 :    等离子体掺杂系统
• "plasma enhanced cvd system" 中文翻译 :    等离子体增强
• "plasma etching system" 中文翻译 :    等离子体蚀刻系统
• "plasma production system" 中文翻译 :    等离子体发生系统
• "plasma system corp" 中文翻译 :    等离子体系统公司
• "resist plasma ashing system" 中文翻译 :    等离子体抗蚀剂灰化系统
• "single wafer plasma system" 中文翻译 :    单晶片处理式等离子装置
• "barrel type plasma etching system" 中文翻译 :    圆筒型等离子体蚀刻系统
• "down stream plasma etching system" 中文翻译 :    分离型等离子体蚀刻系统
• "microwave plasma enhanced cvd system" 中文翻译 :    微波等离子体增强型
• "rf plasma enhanced cvd system" 中文翻译 :    高频等离子体增强
• "plasma" 中文翻译 :    n. 1.【生理】血浆；淋巴液。 2.【生物学】原生质。 3.(做药膏用的)膏浆。 4.【矿物】半透明的绿玉髓。 5.【物理学】等离子(体)；等离子区。 -matic, -mic adj.
• "plasma display plasma display" 中文翻译 :    等离子显示器
• "acceleration of plasma" 中文翻译 :    等离子体加速度
• "adsorbed plasma" 中文翻译 :    吸附血浆
• "air plasma" 中文翻译 :    空气等离子体
• "albumose plasma" 中文翻译 :    ж血浆
• "antilymphocyte plasma" 中文翻译 :    抗淋巴细胞血浆
• "antiplatelet plasma" 中文翻译 :    抗血小板血浆

• 500kw plasma system
  500kw多目标再生能源生产系统
• Influence of laser parameters on plasma arc beam shaping in the relativistic laser - plasma system
  等离子体系统中模拟激光参数对等离子弧柱形态的影响
• In the plasma system , there were c2h2 and ch3 ~ , the material source to produce carbon film
  在等离子体反应体系中存在着碳膜生存的物质源ch _ 2和ch _ 3 。
• Due to the use of microwaves the plasma systems 400 and 660 provide for fast and damage - free plasma processing
  由于微波技术的应用,等离子体400和660系列可提供快速与无损害的等离子处理。
• Plasma system 7200 is a low pressure rf plasma system designed for general purpose cleaning and surface modification
  7200等离子体是一台用于一般等离子体清洗和表面改性的低压射频等离子体设备
• Plasma systems 400 and 660 are low - pressure microwave plasma systems for cleaning advanced chip packages prior to die attach , wire bond and encapsulation
  等离子体400和660系列是低压微波等离子体应用于提高模具粘合，引线的焊接，特别是清洗高级的芯片封装。
• Rf plasma system 9200 is a barrel - type batch stripping system with optional high temperature capabilities for photoresist removal , nitride etch , and other cleaning applications in semiconductor and mems fabs
  射频等离子体9200是桶式炉脱模体,拥有可控制的高温系统可去除光阻材料、氮化物蚀刻和半导体与微型机电系统等方面的清洗功能
• Zro2 ( 6 % y2o3 ) ( ysz ) nano - powders were perpared by dc non - transferred arc plasma systems . based on the tem and xrd analysis results of powde , the particle size of tsz was about 20nm with high purity more than 98 . 7 %
  采用直流电弧等离子体“喷射法” ，以草酸盐干凝胶粉为原料，制备出了平均尺寸为为20nm的ysz纳米粉末，粉末纯度大于98 . 7 。
• Up to now , research on strong interaction with theory model , such as the diagnosing the signal of quark - gluon plasma existence , mostly based on quark - gluon plasma system in high energy heavy ion collision is in chemical and thermal equilibrium
  我们知道，到目前为止，利用理论模型进行的强相互作用方面的研究（比如：得到qgp存在的信号厂多以在高能重离子碰撞中的夸克胶子系统是处于化学平衡和热平衡的为基础的。
• Abstract : the effects of the impurity particles on the structure of a 2d dusty plasma system . the mean square displacement , pair correlation function have been calculated to analyze the system ' s structure characteristics . the results show that both of the impurity particles ' content and mass or charge in the range of our caleulation will decelerate the system ' s phase transition process . here the impurity particles are smaller than the background dusty particles on mass and charge
  文摘:利用分子动力学模拟研究了杂质粒子对二维尘埃等离子体系统的影响.分别计算了平均平方位移,两体相关函数来分析系统的机构特性.结果表明,在参数范围内,杂质的含量以及杂质的质量和电荷的大小都会减慢系统的相变.杂质粒子在质量和电荷上都小于背景的尘埃粒子

• plasma system in Hindi